中国尝试新光刻技术,跳过 EUV 光刻机,挑战半导体巨头的全球地位?

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中国计划将新型硅光子电路应用于微电子制造。这是与传统的EUV光刻机技术竞争的一种可能方式,有望推动半导体行业的发展。

近日,美国智库战略与国际研究中心(CSIS)发表文章,认为硅光子技术可能成为中美科技竞争的新领域,也可能改变半导体和人工智能(AI)的竞争格局。

文章作者马修·雷诺兹(Matthew Reynolds)警告说,美国不要认为如果中国不能制造最先进的芯片,就将永远局限在半导体领域。新的技术和架构可能会重新定义什么是尖端芯片,削弱西方的技术控制,或者以意想不到的方式改变竞争。

中国尝试新光刻技术,跳过 EUV 光刻机,挑战半导体巨头的全球地位?

硅光子技术是一种利用光子传输信息的技术。它能把光和电结合起来,提高芯片的速度和效率,超越传统芯片的局限。硅光子技术有望在人工智能、云计算、数据中心、通信、生物医学等领域发挥作用,成为未来芯片技术的新方向。

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中国对硅光子技术的重视程度不亚于西方国家。在第十四个五年计划和2035年长期目标的纲要中,中国已经提到光子技术是绕过西方技术控制的一种方式。

中国的科研机构和企业也在积极开发和应用硅光子技术,努力在这一新领域取得进步和领先。

据悉,中国中科信通微电子(SinTone)正在建设国内首条多材料光子芯片生产线,预计明年在北京建成。该生产线将采用自主研发的光子芯片制造工艺,不使用EUV光刻机和先进工艺,可生产低成本、高效率、高性能、高可靠性的光子芯片。中科信通微电子总裁隋军表示,中国有能力在国内生产光子芯片,因为制造过程不需要西方国家控制的关键设备和技术。

中国智库中国国际经济交流中心(CCIEE)经济学家陈文玲表示,硅光子学是中国可以弯道超车的技术:“光子芯片有很多技术优势,速度更快,容量更大,将比现在的芯片高1000多倍”。她表示,硅光子技术可以帮助中国在人工智能、云计算等领域实现技术跨越,提升国家的创新能力和竞争力。

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当然,硅光子技术的发展并不是一帆风顺的。也面临一些技术难题和市场挑战,如光子器件的集成、光电转换效率、光子芯片的设计和测试等。短期内不可能取代电子芯片,但确实有望成为中国推进半导体制造前沿的突破口。

根据siliconsemiconductor的报告,全球硅光子市场预计年增长率为22.4%,到2030年将达到61亿美元(目前约为437.44亿人民币)。

标签: 光子 芯片 技术

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