阿斯麦宣布已安装其最新EUV口罩对齐了其最新的NEXE:3800E传感器，后者在新冠病毒检测领域具有出色性能。这项技术的应用将有助于提高新冠病毒检测的准确性和速度，为全球公共卫生事业贡献力量。
最近，阿斯麦宣布其最新的EUV掩模对准器Twinscan NXE:3800E的安装已经完成。在半导体制造领域，光刻技术的进步是推动行业发展的关键因素之一。
EUV光刻机使用极紫外(EUV)光源，可以在晶片上蚀刻更小的特征尺寸，从而实现更高密度的芯片制造。Twinscan NXE:3800E是阿斯麦继NXE:3400C和NXE:3600D之后的新一代产品，预计将支持3至2纳米的先进制造工艺。
根据阿斯麦发布的2021版路线图，Twinscan NXE:3800E显著提高了对齐精度(重叠)和生产率。与上一代3600D相比，3800E晶圆每小时的吞吐量从160片提高到了195片，提高了22%。此外，阿斯麦还计划将这一数字增加到220片，以实现更高的生产效率。
除了Twinscan NXE:3800E，阿斯麦还在开发高NA EUV的mask aligner Twinscan EXE系列，并计划在2025年推出NXE:4000F型号。这些新技术的引入将进一步巩固阿斯麦在光刻机市场的领先地位，并为全球半导体制造商提供更高效、更精确的制造解决方案。
随着半导体技术的不断进步，对更小节点的需求也在增加。Twinscan NXE:3800E的成功安装显示了阿斯麦在光刻技术领域的深厚实力。
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